微弧氧化处于火花放电区中,电压较高,当阳极氧化电压超过某一值时,表面初始生成的有一定绝缘性的氧化膜被击穿,产生微弧放电,形成瞬间的超高温区域(可达8000摄氏度)。
致密层是微弧氧化层的主体,约占氧化层总厚度的60% ~70%,该层致密、孔隙小,每个孔隙的直径约为几微米,孔隙率在5%以下,主要是镁的氧化物,硬度高且耐磨。过渡层为界面层,是微弧氧 化膜层与基体的交界处。过渡层凹凸不平,与基体相互渗透,使微弧氧化膜层与基体结合牢固,属典型的冶金结合。等离子弧消失以后,熔融物急速冷却形成陶瓷层。微弧氧化膜层的生长是一个“成膜—击穿—熔化—烧结—再成膜”的多次循环过程。
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